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2023年普通高等学校招生全国统一考试名校联盟·模拟信息卷(三)3化学试卷答案
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7.2021年5月,上海中微宣完成3nm刻蚀机Alpha原型机的设计和制造,刻蚀工艺涉及的反应为:Si+HNO3+6HF=H2SiF6+HNO2+H2+H2O。,下列说法不正确的是()A.该反应中,HNO3和HF均为氧化剂B.生成氢气质量为1g时,转移电子的物质的量为2molC.硅能与氢氧化钠反应,也能与硝酸和氢氟酸混合液反应,故硅为两性物质D.氧化性:HNO3>H2SiF6
1Cl2(g)=2Clg(g),快;3COClg(g)+Cl2(g)COCl2(g)+Cl(g)慢其中反应②的速率方程V=kBc(CO)c(Cl^-),v=kc(COCl^-),k1,k2是速率常数。下列说法错误的是A.反应②的平衡常数K=k1k2B.反应①的活化能小于反应③的活化能C.增大压强或使用催化剂可以增大该反应体系中COCl2(g)的体积分数D.要提高合成COCl2的速率,关键是提高反应③的速率
NOH^-,和OH^-已知:双极膜复合层间H2O能解离为H^+和法正确的是2H2O+2e^-H2+2OH^-的定向通过。下列说A.M极连接电源的正极,电极反应式为Na^+经膜a由盐室移向碱室1B.膜a为阳离子交换膜,膜b为阴离子交换膜,C.电解一段时间后,碱室2中NaCH溶液浓度变大溶液,当外电路中通过2mole^-时,可生成1molH2SO4D.若将盐室中原料换成Na2SO4M^2+不发生水解。的饱和溶液中c(M^2+)随c(H^+)而变化,
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